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出光興産、「ナノテク棟」の新設で
電子材料分野の研究開発を強化

[issued: 2008年6月5日]
[Misc.] [半導体製造] [ビジネス戦略]
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「ナノテク棟」
出光興産が新設した「ナノテク棟」

　出光興産は2008年6月、総額13億円を投じて千葉県袖ケ浦市にある同社先進技術研究所内に建設を進めていた「ナノテク棟」が竣工したと発表した。

　ナノテク棟は、最先端の電子材料分野の研究開発を強化することを目的に建設された。鉄骨2階建てで、延べ床面積は1678.8m2。フラットパネルディスプレイ（FPD）/半導体集積回路などの基板上に形成する薄膜の作製実験/評価施設としてクラス1000のクリーンルームが2室、リソグラフィ施設と微量金属測定施設としてクラス100のクリーンルームが2室設置されている。また、電子材料を中心とした機能性材料の製造検討を行う有機合成実験室も備えている。

　電子材料分野においては、これまで以上に微細/精密/高性能な機能性材料への需要が高まりつつある。出光興産がこのナノテク棟を建設したことには、同分野での研究開発を加速する狙いがある。

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