2008年6月に米国ハワイで開催された『2008 VLSI Symposium』において、ベルギーの研究機関であるIMECは、「32nmのCMOSプロセスに、ハフニウム系のHigh-k絶縁膜とタンタ…

2008年6月19日 [Misc.] [ビジネス戦略]

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